AP-N 4400

- Negative Photo resist

- Thick negative resist for electroplating, microsystems technology and LIGA >50um

- 500ml provide 250ml*2bottles

- i-,g- line , e_beam , X-ray , synchrotron , broadband UV

- Chemically enhanced , very good adhension, electro plating-stable

- very high sensitivity , easy removal

- profiles with high edge steepness for excellent resolution, covering of topologies

- 4450_05/_10 for films up to 10um . 20um ( 250rpm)

- novolac , crosslinking agent , amine-based acid generator

- safer solvent PGMEA

0.l L / 0.25L / 0.5L / 1L / 2.5L 단위로 판매하고 있으며, 납기는 발주 후 8주입니다.

SU-8 대응품으로 판매되고 있으며, 사용하신 분들 말씀으로는 데이타는 없지만, SU-8보다 쉽게 잘 쉬워진다고 합니다.

필요하신 분들은 전화 ( 010-9173-7016 ) 또는 메일 ( wikim@buysemi.co.kr ) 로 문의 부탁드리니다.

제조사는 독일 Allresist GmbH입니다.

 아래 내용 클릭하시면 자료를 보실 수 있습니다.

 https://www.dropbox.com/s/2v49xo787bmo9wl/AR-N%204400.pdf

 반품 / 교환 / 환불이 발생하여 진심으로 사과드립니다. 좀 더 나은 서비스를 위해 최선을 다하겠습니다.