안녕하세요 KIST 생채재료연구단에서 근무중인 이연택이라고 합니다.
다름이 아니라 저희가 기존에 가지고 있는 포토 마스크는 ~300nm 파장 때까지 투과성이 0%임을 확인했습니다.
앞으로 Click-Chemistry를 이용한 실험을 위해
UV 254nm 파장 투과성을 가지는 포토마스크 필요한 상황입니다.
혹시 업체에서 제작하시는 MASK 들이 254nm 파장에서 투과도를 가지는지 그리고 혹시 쿼츠로도 마스크 제작이 가능한지 여쭤보고 싶습니다.
그리고 포토리소보다는 러프한 환경에서 실험할 예정이라 어떤 마스크가 적합할지도 조언해주신다면 감사하겠습니다.
추가로 쉐도우 마스크로도 견적 부탁드립니다!( 정사각형 한변 50 마이크로 ~100 마이크로)
대략 패턴은 사진에 첨부해드린바와 같이 삼각형, 정사각형 다양한 모양의 패턴으로 제작하려 합니다. 각 모양의 한변의 길이를 10마이크로 부터 100 마이크로 까지 만드는게 가능한지도 부탁드립니다.