AR- P 6200

E-beam

- high sensitivity which can be adjusted via the developer

- highest resolution ( <10nm ) and very high contrast

- highly process-stable, high plasma etching resistance

- easy ( a-methly styrene-co-a-chloroacrylate methlyester) and an enhancer of sensitivity

- safer solvent anisole

ZEP대응 제품으로 가능하며 e_beam resist입니다.

필요하신 분들은 전화 ( 010-9173-7016 ) 또는 메일 ( wikim@buysemi.co.kr ) 로 문의 부탁드리니다.

납기는 발주 후 8주 정도입니다. 제조사는 독일 Allresist GmbH입니다.

 아래 내용 클릭하시면 자료를 보실 수 있습니다.

 https://www.dropbox.com/s/srh75l41k14ay60/AR-P%206200.pdf

 반품 / 교환 / 환불이 발생하여 진심으로 사과드립니다. 좀 더 나은 서비스를 위해 최선을 다하겠습니다.